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產品簡介
均質器 型號；HAD-FJ200-T本速分散均質機體積小、噪音低、率大、運行安可靠。運行狀態(tài)控制采用電子無定時調速。分散均質作頭采用優(yōu)質不銹鋼，耐腐蝕性能好，并可視容器大小更換不同直徑的分散均質作頭。分散均質作在電機速驅動下，產生強大的液體剪切和劇烈的頻機械效應，促使實驗體物料在巨大的離心力作用下，承受每分鐘達次的剪切、撕裂和混合，從而達到分散、均
產品分類
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2018-04-032020-10-292018-05-112018-05-02| 品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 國產 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 能源,電子/電池,道路/軌道/船舶,汽車及零部件,電氣 | 測量范圍 | R1000: 0-2000mg/L; |
速分散均質機/均質器 型號；HAD-FJ200-T
本速分散均質機體積小、噪音低、率大、運行安可靠。運行狀態(tài)控制采用電子無定時調速。分散均質作頭采用優(yōu)質不銹鋼，耐腐蝕性能好，并可視容器大小更換不同直徑的分散均質作頭。分散均質作在電機速驅動下，產生強大的液體剪切和劇烈的頻機械效應，促使實驗體物料在巨大的離心力作用下，承受每分鐘達次的剪切、撕裂和混合，從而達到分散、均質的效果。使用電源 220V 50Hz
系列產品型號 FJ200-T
輸出率（W） 200
輸入率（W） 340
轉速范圍（r/min） 300~21000
調速方式 無
作方式 斷續(xù)
作頭配置（mm） Ф12 Ф18
定時范圍（s） 5~300
處理量（L) 0.02~0.8
2.懸浮物測試儀/水質在線懸浮物分析儀/在線懸浮物測定儀 型號:HAD-MLSS4210
應用
l 海洋，地面，自來水，市政廢水，廢水處理工藝等
l 化工，醫(yī)藥，食品加工，造紙工業(yè)各種工業(yè)過程配套，材質可特殊訂做。
功能
l 報警限值可以設定，聲光報開關信號輸出0/5V信號,驅動<30mA;和光電隔離的晶閘管觸發(fā)電路（額定電壓400V,電流1A）
l 現(xiàn)場配2×16 LCD液晶顯示數(shù)據(jù)，配1個扒插式4x5鍵盤;
l 自動溫度軟件補償(ATC)
l 標定功能允許用戶利用配制的全濃度范圍標樣建立多至4個點,也允許純水單點調零，2點標準樣品標定（DKA,在線性量程內）。
l 輸出1路0-2.5/5V,0/4-20mA線性標準信號。可直接用于顯示器，記錄儀，或做PID閉環(huán)控制。功能可設計。
性能
l 電路測試精度0.05%FS
l 外接電源DC 12-24V, 功率:<1.40 W, 基本測試功耗<500mW.
l 防水設計: NEMA 4x。
測量范圍: R1000: 0-2000mg/L;
準確度: ±2-5% FS;
重復精度: <±1%R;
最高分辨率:0.1mg/L;
使用溫度: 0-50℃;壓力:<10 kgf/cm2;
3.冷卻水循環(huán)機/循環(huán)冷卻水機型號:HAD-X300
HAD系列冷卻循環(huán)裝置采用非啟停制冷技術，其設計和制造能夠提供行業(yè)的技術指標和可靠性，是高精度和高穩(wěn)定的冷卻設備。 HAD系列冷卻循環(huán)裝置是全封閉制冷系統(tǒng)，結合PID控制，制冷快，溫度穩(wěn)定，對一些要求精密恒溫冷卻的設備。 HAD系列冷卻循環(huán)裝置應用領域廣泛，應用于各類實驗室和生產領域，滿足不同的冷卻恒溫要求，可以配套量熱儀、折光儀、密度檢測儀、電泳槽、激光器、透射掃描電鏡、真空鍍膜機等。
型號:HAD-X300
溫度范圍:5-35
控溫精度:正負0.1
體式:一體式
制冷量(20度時):300W
循環(huán)泵最大壓力bar:0.8
循環(huán)泵最大流量L/MIN:15
水箱容積:4L
儀器重量:30kg
外型尺寸:W*D*H 230×475×475
4.恒溫磁力攪拌器/磁力攪拌儀 型號:HAH01-3
HAH01-3恒溫磁力攪拌器 特點
特 點：無刷直流電機驅動，特強磁力，適用于高粘度大容量液體攪拌， 恒溫型，配電接點水銀溫度計可自動控溫，加熱功率無級可調，電壓表顯示加熱電壓
HAH01-3恒溫磁力攪拌器主要技術參數(shù)
電 源：AC220V±10% 50Hz
攪拌轉速：100～1800 r/min
最大攪拌容量：10000ml
電機轉矩：25mN·m
加熱功率：800W內可調
加 熱 盤：￠175mm
控溫范圍：室溫～250℃
控溫精度：±1℃
外形尺寸：280×175×145（mm）
注：電接點水銀溫度計用戶自備
5.恒溫型 浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 鍍膜機 型號:HAD-100H
一. 產品簡介
浸漬提拉鍍膜機是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設計，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調、精密控制。對鍍膜基質無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、工作時液面無振動，可極大提高實驗精度與實驗效率。
適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應用于科學研究、產品生產。
二. 產品特點
1. 采用自主設計的優(yōu)良的精密傳動裝置；
2. 關鍵零部件來自中國臺灣及德國進口，確保運行精度及穩(wěn)定性；
3. 多參數(shù)全自動控制；提拉速度連續(xù)可調；
4. 鍍膜過程采用4.3寸液晶觸摸屏使控制更方便；恒溫場溫度LCD液晶顯示可編程控溫，。
5. 運行時，各項參數(shù)實時顯示，更直觀了解鍍膜進程；
6. 高、低速均運行平穩(wěn)，鍍膜時液面無振動，使成膜更均勻；
7. 整個鍍膜過程在恒溫溫度場內進行，可精密控溫，溫度均勻性好。
8. 特殊設計的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，不會夾壞樣片；（單點螺絲頂緊樣片的夾持方式容易夾壞樣片）
三. 技術參數(shù)
1. 提拉速度范圍：1～5000 μm/s，最小分辨率1μm/s；
2. 適用基片尺寸：MIN 5×5 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm；
3. 浸漬時間：1～1200 s，最小分辨率1s；
4. 鍍膜次數(shù)：1～20次，最少1次；
5. 每次鍍膜間隔時間：1～3600 s，最小分辨率1s；
6. 恒溫溫度：RT+10～200℃,溫度分辨率0.1℃；
7. 溫度波動度≤±0.2℃；
8. 恒溫場內尺寸：340×320×320 mm（W×D×H）；
9. 電源：220V/50Hz
以上參數(shù)資料與圖片相對應
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